danДоклады Национальной академии наук БеларусиDoklady of the National Academy of Sciences of Belarus1561-83232524-2431The Republican Unitary Enterprise Publishing House "Belaruskaya Navuka"dan-124Research ArticleХИМИЯCHEMISTRYНЕОРГАНИЧЕСКИЕ ФОТОРЕЗИСТЫ НА ОСНОВЕ СМЕШАННЫХ ОКСИДОВ МОЛИБДЕНА И ВАНАДИЯINORGANIC PHOTORESISTS BASED ON MIXED OXIDES OF MOLYBDENUM AND VANADIUMБАРАБОШИНАА. А.BARABOSHINAA. A.anya15789@mail.ruСВИРИДОВАТ. В.SVIRIDOVAT. V.sviridova@bsu.byЦЫБУЛЬСКАЯЛ. С.TSYBULSKAJAL. S.Gaevskaya@bsu.byКОКОРИНА. И.KOKORINA. I.kokorin@chph.ras.ruСВИРИДОВД. В.SVIRIDOVD. V.

член-корреспондент

sviridov@bsu.byБелорусский государственный университет, МинскBelаrusian State University, MinskИнститут химической физики им. Н. Н. Семёнова Российской академии наук, МоскваSemenov Institute of Chemical Physics of Russian Academy of Sciences, Moscow2015030620165946871Copyright © БАРАБОШИНА А.А., СВИРИДОВА Т.В., ЦЫБУЛЬСКАЯ Л.С., КОКОРИН А.И., СВИРИДОВ Д.В., 20162016БАРАБОШИНА А.А., СВИРИДОВА Т.В., ЦЫБУЛЬСКАЯ Л.С., КОКОРИН А.И., СВИРИДОВ Д.В.BARABOSHINA A.A., SVIRIDOVA T.V., TSYBULSKAJA L.S., KOKORIN A.I., SVIRIDOV D.V.Данная работа распространяется под лицензией Creative Commons Attribution 4.0.This work is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 License.https://doklady.belnauka.by/jour/article/view/124

Продемонстрирована возможность использования тонких пленок смешанного молибден-ванадиевого оксида в качестве неорганического фоторезистного материала для получения высокоустойчивых рисунков-масок. В основе фоточувствительности систем такого рода лежит фотоиндуцированная поликонденсация олигомеров смешанных полиоксокислот в пленках ксерогеля V2O5 : MoO3.

The possibility of application of thin films of molybdenum-vanadium oxide as the photoresist material was demonstrated. The photosensitivity of such a system was due to the photo-induced polycondensation of polymolybdic acid oligomers in xerogel V2O5 : MoO3 films.

смешанный оксид молибдена-ванадияфотолитографиянеорганический фоторезистmolybdenum-vanadium mixed oxidephotolithographyinorganic photoresistReferencesLiu, B. Sub-100 nm nanolithography and pattern transfer on sol-gel-derived TiO2 resist / B. Liu, S.-T. Ho // J. Electrochem. Soc. – 2008. – Vol. 155. – P. P57–P60.Liu, B. Sub-100 nm nanolithography and pattern transfer on sol-gel-derived TiO2 resist / B. Liu, S.-T. Ho // J. Electrochem. Soc. – 2008. – Vol. 155. – P. P57–P60.Лазерно-стимулированная модификация свойств оксидов переходных металлов / А. М. Ильин [и др.] // Оптика и спектроскопия. – 1997. – Т. 82. – С. 32–38.Лазерно-стимулированная модификация свойств оксидов переходных металлов / А. М. Ильин [и др.] // Оптика и спектроскопия. – 1997. – Т. 82. – С. 32–38.Chudnovskii, F. A. Metal-insulator phase transition in disordered VO2 / F. A. Chudnovskii, G. B. Stefanovich // J. Solid State Chem. – 1992. – Vol. 98. – P. 137–145.Chudnovskii, F. A. Metal-insulator phase transition in disordered VO2 / F. A. Chudnovskii, G. B. Stefanovich // J. Solid State Chem. – 1992. – Vol. 98. – P. 137–145.van Zant, P. Microchip fabrication / P. van Zant. – NY, 1997.van Zant, P. Microchip fabrication / P. van Zant. – NY, 1997.Sviridova, T. V. Nano- and microcrystals of molybdenum trioxide and metal-matrix composites on their basis / T. V. Sviridova, L. I. Stepanova, D. V. Sviridov // Molybdenum: Characteristics, Production and Applications / ed. by M. Ortiz [et al.]. – NY, 2012. – P. 147–179.Sviridova, T. V. Nano- and microcrystals of molybdenum trioxide and metal-matrix composites on their basis / T. V. Sviridova, L. I. Stepanova, D. V. Sviridov // Molybdenum: Characteristics, Production and Applications / ed. by M. Ortiz [et al.]. – NY, 2012. – P. 147–179.Livage, J. Sol-gel chemistry of transition metal oxides / J. Livage, M. Henry, C. Sanchez // Progr. Solid State Chem. – 1988. – Vol. 18. – P. 259–341.Livage, J. Sol-gel chemistry of transition metal oxides / J. Livage, M. Henry, C. Sanchez // Progr. Solid State Chem. – 1988. – Vol. 18. – P. 259–341.Авдеев, В. И. Моделирование активных центров нанесенных катализаторов V2O5/SiO2 и V2O5/TiO2. Теоретический анализ оптических свойств методом DFT / В. И. Авдеев, Г. М. Жидомиров // Журн. структурной химии. – 2005. – Т. 46. – С. 599–612.Авдеев, В. И. Моделирование активных центров нанесенных катализаторов V2O5/SiO2 и V2O5/TiO2. Теоретический анализ оптических свойств методом DFT / В. И. Авдеев, Г. М. Жидомиров // Журн. структурной химии. – 2005. – Т. 46. – С. 599–612.

The authors declare that there are no conflicts of interest present.