FORMATION OF Ti-Al-N COATINGS BY CONTROLLED REACTIVE MAGNETRON SPUTTERING
Abstract
Ti-Al-N films were synthesized by a reactive magnetron sputtering to investigate the effects of sputtering conditions on the microstructure and mechanical properties. The deposited coatings were characterised by RBS (Rutherford backscattering spectroscopy), scanning electron microscopy and microindentation. Results show that deposition parameters have a large influence on the hardness of deposited coatings and their microstructure. It was revealed that the high hardness and low friction coefficient are corresponded to films with globular microstructure.
About the Authors
F. F. KOMAROV
Белорусский государственный университет, Минск
Belarus
Belarus
I. M. KLIMOVICH
Белорусский государственный университет, Минск
Belarus
Belarus
V. A. ZAIKOV
Белорусский государственный университет, Минск
Belarus
Belarus
V. V. PILKO
Белорусский государственный университет, Минск
Belarus
Belarus
References
1. Комаров Ф. Ф., Константинов С. В., Пилько В. В. // Трение и износ. 2014. № 3. С. 293–303.
2. Cavaleiro A., De Hosson J. Т. // Nanostructured Coatings. Berlin: Springer-Verlag, 2006.
3. Погребняк А. Д., Шпак А. П., Азаренков Н. А., Береснев В. М. // Успехи физ. наук. 2009. T. 179, № 1. С. 35–64.
4. Белоус В. А., Васильев В. В., Лучанинов А. А.и др. // ФИП. 2009. Т. 7, № 3. С. 216–222.
5. Бурмаков А. П., Зайков В. А., Лабуда А. А., Черный В. Е. // Журн. прикладной спектроскопии. 1996. Т. 63, № 6. С. 1049−1053.
6. Бизюков А. А., Кашаба А. Е., Середа К. Н. // Письма в ЖТФ. 1997. Т. 23. С. 69–73.
7. Мусил И. // Физические и механические свойства твердых нанокомпозитных пленок, получаемых реактивным магнетронным напылением. Наноструктурные покрытия. М., 2011.
Review
Views: 703
Email this article 